De l’invention à l’innovation

Innovation & entrepreneuriat : accompagner les start-ups technologiques de demain

IES Engineering encourage activement la création de start-ups technologiques, en offrant un accompagnement à chaque étape du processus de maturation. De l’idée à la mise sur le marché, nous facilitons la mise en relation avec les bons partenaires et les ressources nécessaires pour concrétiser les projets innovants issus de notre laboratoire. 

Notre collaboration avec la SATT (Société d’Accélération du Transfert de Technologies) permet d’accélérer le transfert et la valorisation des innovations issues de nos travaux. 
Ensemble, nous transformons les découvertes scientifiques en opportunités entrepreneuriales, pour un impact économique et sociétal durable. 

Les projets de maturation issus de notre laboratoire

EPIWAFER

Le procédé développé par l’équipe NanoMIR permet de proposer des pseudo-substrats III-V par épitaxie directe de fines couches de GaSb et de GaAs sur des substrats de silicium. Ces pseudo-substrats peuvent ensuite être utilisés par nos clients comme des substrats III-V classiques avec tous les avantages d’une plateforme silicium : possibilité d’intégration à de la technologie Si et réduction massive de l’utilisation de matériaux critiques des colonnes III et V.

Technologie & processus

Notre technique exclusive permet d’enterrer les parois d’antiphase (APBs) dans les 500 premiers nanomètres de la couche épitaxiée.

Ce procédé est appliqué sur des substrats faiblement désorientés 
(≤ 0,5°) et de diamètre de :

  • 2’’ à 3’’ pour GaSb.
  • 2’’ pour GaAs

Cette approche novatrice garantit une meilleure qualité des films épitaxiés et ouvre la voie à des applications plus fiables et performantes.

Avantages

Qualité garantie

Homogénité garantie grâce à des cartographies de :

  • Mesure AFM (Atomic Force Microscopy).
  • Diffraction de rayons X (HR – X RD).
  • Mesure de densité de dislocations (ECCI).

Fabrication sur-mesure

  • Produit conçu sur mesure, selon vos besoins
    (diamètre, épaisseur…).
  • Réduction de la consommation de matériaux
    critiques.

EPITAQSI

A venir…

Nos partenaires

Membres de IES Engineering

Responsable :

Elsa Giraud

Ingénieur de Recherche CDD - CNRS

Lou Elleboode

Ingénieur d'Etudes CDD - UM

Said Khalfaoui

Assistant Ingénieur - UM

Nicolas Troesch

Ingénieur de Recherche CDD - UM